光刻胶分类分析

中国市场研究网www.hjbaogao.com.cn2022-10-12 14:59:14
内容摘要:光刻胶是由感光树脂、光引发剂、溶剂三种主要成分和其他助剂组成的对光敏感的混合液体,是通过紫外光、深紫外光、电子束、离子束、X 射线等光照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀刻材料。

光刻胶是由感光树脂、光引发剂、溶剂三种主要成分和其他助剂组成的对光敏感的混合液体,是通过紫外光、深紫外光、电子束、离子束、X 射线等光照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀刻材料。感光树脂构成光刻胶的基本骨架,主要决定曝光后光刻胶的基本性能,包括硬度、柔韧性、附着力、曝光前和曝光后对特定溶剂的溶解度;光引发剂对光刻胶的感光度、分辨率等起决定性作用;溶剂用于溶解光刻胶各组成成分,也是后续光刻胶化学反应的介质。

助剂是指根据不同用途添加的颜料、固化剂、分散剂等调节性能的添加剂。

光刻胶种类繁多,根据其化学反应机理和显影原理,可分为正性光刻胶和负性光刻胶两类。对显影液不可溶,经光照后变成可溶物质的即为正性光刻胶;反之,光照后形成不可溶物质的是负性光刻胶,具体如下图所示:

正性光刻胶和负性光刻胶两类

根据应用领域,光刻胶可分为集成电路光刻胶(可细分为晶圆制造、先进封装)、显示面板光刻胶和PCB 光刻胶,其技术壁垒依次降低。PCB 光刻胶是目前国产替代进度最快的产品;显示面板中LCD 光刻胶替代进度相对较快,OLED 光刻胶仍由国外企业垄断;集成电路光刻胶目前国产技术较国外先进技术差距较大。

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